濺鍍實驗室
1.教學目標
學習半導體製程中化學氣相及物理氣相沉積製程。
2.研究項目
CIGS太陽能電池、透明導電膜、類鑽碳刀具薄膜、氮化物薄膜。
3.設備清單
|
設備名稱 |
數量 |
|
射頻磁控濺鍍機 |
1台 |
|
直流磁控濺鍍機 |
1台 |
|
電漿乾式蝕刻機 |
2台 |
▲射頻磁控濺鍍機
瀏覽數:
分享
